哈氏合金C276丝网(武山哈氏合金C276热处理温度和工艺)
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很多人不知道哈氏合金C276丝网的知识，小编对武山哈氏合金C276热处理温度和工艺进行分享，希望能对你有所帮助！
本文导读目录：
哈氏合金C276丝网
1.哈氏合金钢丝,英科乃尔钢丝和蒙乃尔钢丝:。
a.哈氏合金,英科乃尔和蒙乃尔材料钢丝制造丝网/过滤网。
c..哈氏合金,英科乃尔和蒙乃尔材料钢丝制造弹簧。
e.哈氏合金,英科乃尔和蒙乃尔材料钢丝制造其他形式部件。
(4).标准/规范：GB5330-2003标记:例:GFW1.00/0.355(平纹)GB/T5330-2003。
3.哈氏合金丝网除沫器/气液过滤网,英科乃尔丝网除沫器/气液过滤网和蒙乃尔丝网除沫器/气液过滤网。
a.哈氏B2,哈氏B3,哈氏C-276,哈氏C-22。
b.英科600，英科601,英科625,英科718,英科800HT,英科825等。
(2).用途:适用于石油、炼油、化工（醋酸，醋肝和其他酸类环境条件等）工业中的除沫、蒸馏、吸收、蒸发、过滤等工艺过程,消除夹带在蒸汽或气体中的雾滴和液沫。
4.哈氏合金丝网波纹填料,英科乃尔丝网波纹填料和蒙乃尔丝网波纹填料。
填料特点：理论板数高，其理论板数随气相负荷降低很小时也有较高的理论板数。
(1).提供除沫器/气液过滤网材料(进口):。
a.哈氏B2,哈氏B3,哈氏C-276,哈氏C-22。
b.英科600，英科601,英科625,英科718,英科800HT,英科825等。
武山哈氏合金C276热处理温度和工艺
哈氏合金C276固溶退火应在1100至1160C（2,012至2,120F）之间的温度下进行，推荐温度在1150C。
退火期间的保留时间取决于半成品的厚度，如没有特殊要求，板材的退火温度可参考以下计算。
对于厚度d10至20毫米（0.4-0.8英寸），保持时间为t30分钟+（d-10毫米）x2分钟/毫米。
因为退火炉子类型很多，涉及不同的装载，卸载和操作形式，故对于加热，退火，腐蚀的时间没有具体规定，只有一般准则。
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2.哈氏合金C276外观状态：黑皮态、车光态、磨光态、酸洗态；。
4.哈氏合金C276质量标准：GB、HB、GJB、AMS、GB/T、ASTM、ASME、JIS、JS、DIN、EN其它；。
Incoloy800/800H/800HT合金（N08800/N08810/N08811）。
Inconel600/601合金（UNSN06600/N06601）。
C-22合金（UNSN06022）C-2000合金（UNSN06200）X合金（UNSN06002）。
GH1131GH4169GH4145GH2132GH2136GH3030GH3039GH738GH5188。
NS111,NS112,NS113,NS131,NS141,NS142,NS143,NS311,NS314,NS315,NS321,NS322,NS331,。
Monel400，MonelK-500/。
1J501J791J854J294J324J334J36。
2、合金的热加工温度范围1200℃～950℃，冷却方式为水冷或快速空冷。
2.在热处理之前及热处理过程中应始终保持工件清洁和无污染。
4.在热处理过程中不能接触硫、磷、铅及其它低熔点金属，否则会损害合金的性能，应注意清除诸如标记漆、温度指示漆、彩色蜡笔、润滑油、燃料等污物。
6.加热炉的炉气以中性至微氧化性为宜，应避免炉气在氧化性和还原性之间波动。
2.若冷轧变形量大于15%，则需要对工件进行二次固溶处理。
磁控溅射法制备的哈氏合金薄膜能够保持合金原有的特性，且薄膜质量好，与基体结合力强，在工程实际应用中，对材料的表面有效防护具有重要意义。
实验前，基片用丙酮和无水乙醇清洗，并用氮气吹干。
基片装夹时利用真空室内部基片架上的夹片贴紧基片，以便做出用于测量膜厚的台阶。
将真空室内本底真空抽至9X10Pa，通入纯度为99．99％的氩气作为工作气体，氩气流量控制在50sccm，T作气压2Pa，溅射功率分别为40W，60W，80W，靶基距12．5cm，沉积时间1h，在室温下制备哈氏合金薄膜，薄膜样品均在真空室内冷却至室温后取。
溅射功率分别为40W、60W、80W，溅射时问1h，在室温下制备哈氏合金薄膜，利用台阶仪测量其厚度，并通过计算得到薄膜的沉积速率，结果如表2所示。
为保证数据的准确性，每一数据均为测量次后取平均值。
随着功率的升高，表面迁移牢增加，品粒尺度随之增长。
但表面迁移率低时小利于结晶，因此晶粒度分布不均，致密度较低，如图1所示。
根据公式(1)计算不同功率下薄膜与靶材成分的平均差值，结果见表4。
由表4可以看出随着溅射功率的升高，薄膜与靶材的成分差异逐渐减小，溅射功率为80W时，有利于薄膜的化学成分接近哈氏合金靶材的成分。
通过x射线光电子能谱实验(XPS)分析哈氏合金薄膜表面的化学组成，图2为不同溅射功率下Ni、Cr、Fe、Mo的XPS谱图，金属元素W由于含量过少，得到的XPS谱图信号较弱，在此不做分析。
由XPS谱图可知，随溅射功率升高结合能呈上升趋势，其变化不明显，可能受测量误差的影响。
Ni的结合能位于854．1eV左右，与金属Ni的标准结合能有较大差异，且伴随明显的卫星峰，说明其化学状态发生了改变。
这是由于金属Ni极易氧化，在分析测试前接触空气，在表面形成了氧化态的Ni，因此XPS测得的Ni的结合能偏高。
磁控溅射方法制备硅基哈氏合金薄膜，室温下沉积时间相同，薄膜沉积速率及厚度随着溅射功率的提高而随之增加，晶粒尺度随之长大，且晶粒尺度趋于均匀，薄膜表面由于应力的增长出现细小裂纹。
因此，薄膜的硬度变化呈先增后减的趋势，溅射功率为60W时硬度最高。
磁控溅射方法制备硅基哈氏合金薄膜表面均匀平整，结构致密。
溅射功率升高硅基哈氏合金薄膜元素的结合能未发生明显改变，薄膜表面除了易氧化的金属Ni外，其他金属元素都以金属态存在。
溅射功率为80W时，有利于薄膜的化学成分更接近哈氏合金靶材的成分。
那么以上的内容就是关于哈氏合金C276丝网的介绍了，武山哈氏合金C276热处理温度和工艺是小编整理汇总而成，希望能给大家带来帮助。
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